因此，做好零件的前處理，是整個(gè)鍍鈦工序獲得良好結果的先決條件。首先，必須保證除油和酸洗溶液的濃度和純度，溶液中漂浮的油污要及時(shí)清理干凈；其次，除銹液雜質(zhì)達到一定量時(shí)，將會(huì )影響鍍層質(zhì)量，所以要定期更換。在鍍鈦生產(chǎn)中，由于各種原因，導致各種有害雜質(zhì)進(jìn)入鍍鈦液。雜質(zhì)的種類(lèi)繁多，大致有金屬雜質(zhì)、金屬氧化物、非金屬雜質(zhì)和種種不溶性懸浮物、有機雜質(zhì)等。各種鍍液所含雜質(zhì)的種類(lèi)不盡相同，對同一種雜質(zhì)的容忍程度也不相同。當一種或幾種有害雜質(zhì)積累到一定程度時(shí)，就會(huì )影響鍍液性能和鍍層質(zhì)量，因此，不能等到雜質(zhì)積累到造成危害時(shí)，才處理電鍍液。

真空中殘存氣體的稀薄程度，就是真空程度的高低，即真空度。通常用壓力表示單位（Pa）3.1Pa就是1m2面積上作用1N的壓力。1大氣壓=1.03×105Pa壓升率：?jiǎn)挝粫r(shí)間內，真空度降低的速率。單位：Pa/h真空泵的抽氣簡(jiǎn)稱(chēng)抽速）（單位：L/S）：當泵裝有標準試驗罩并按規定條件工作時(shí)，從試驗罩流過(guò)的氣體流量與在試驗罩上位置測得的平衡壓力之比。

真空鍍膜技術(shù)是一項新興的技術(shù)，國際上直到60年代才開(kāi)始將CVD(化學(xué)氣相鍍膜)技術(shù)應用到硬質(zhì)合金工具中。因為這種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000oC)下進(jìn)行，且涂層類(lèi)型單一，局限性很大，所以在開(kāi)發(fā)初期還有待改進(jìn)。離子鍍膜的基本原理：在真空條件下，采用一定的等離子體離子化技術(shù)，使鍍層原子部分離子化，同時(shí)產(chǎn)生大量高能中性原子，并在鍍層表面施加負偏壓。因此，在深度負偏壓作用下，離子沉積在基體表面形成薄膜。